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Wafer Cleaning을 수작업으로 가능하도록 특수설계된 것으로 BATH밑쪽에 펀칭플레이트를 설치하여 D.I Water가 Wafer 표면에 골고루 분사되도록 하는 구조를 가진 장치입니다

  • 구성

    - BATH : 투명 아크릴
    - WAFER GUIDE : PC
    - 펀칭플레이트 : PVC
    - BODY : PVC


 

불소수지 PTFE로 절삭가공된 밸브로 MANUAL TYPE, NEEDLE TYPE, STOPCOCK SELECTOR TYPE 등 주문자의 사양에 따라 제작이 가능하며 오리피스의 규격은 1/16″에서 1/2″로 다양하며 체결은 MALE과 FEMALE로 PT나사와 NPT나사중 선택할 수 있습니다.

  • 사용압력은 최대 75PSI

 

 


반도체 장비의 DRAIN용 VALVE로 QUICK가 요구되는 곳에 적합하며 액이 접하는 부분은 내약품성이 우수한 불소수지 PTFE를 사용하고 BODY는 PVC로 제작되었으며 주문자의 요구에 따라 다양한 규격제품생산이 가능합니다.






불소수지 PTFE로 성형하여 절삭가공한
제품으로 주문자 사양에 따라 다양한 규격의
제품을 생산합니다.

 



불소수지 PTFE로 성형하여 절삭가공한
제품으로 주문자 사양에 따라 다양한 규격의
제품을 생산합니다.


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